㈱大阪真空機器製作所

• 取付姿勢が360度自由自在なので、装置設計の自由度が拡大。
• メーカー独自の軸受構造の採用により、大気突入による急な圧力上昇に強い。
• ベントポートを利用して、エアーブレーキの要領でポンプを急停止することができる。

用途

• 半導体製造
• 電子銃排気、イオン源排気
• ＦＰＤ製造

• 取付姿勢が360度自由自在なので、装置設計の自由度が拡大。
• アンバランス力補償制御機能を搭載し、ポンプ本体の振動を大幅に低減。
• 潤滑材を使用しないので、よりクリーンなドライ排気を実現。

用途

• 半導体製造
• 電子銃排気、イオン源排気
• ＦＰＤ製造

• コントローラと電源ユニットを一体化したコンパクトな設計。出力ケーブルや別置きコントローラが無くなり、ケーブルダクトやコントローララックが不要になる。
• 広い真空領域で大流量排気が可能。優れた到達圧力、高圧縮比。
• 各種アクセス部を前面に集約し、作業効率改善。

用途

• 太陽電池製造装置
• ガラス/レンズ加工
• フィルム加工

• 全クラスでケミカル形をラインナップしており、腐食性ガスの排気に適している。
• ポンプ内部へのダスト混入によるポンプトラブルが少ない。
• 不意の大気突入に強い堅牢設計。

用途

• 半導体製造
• 電子銃排気、イオン源排気
• ＦＰＤ製造

• 大気圧で連続運転可能。開放時排気速度800Ｌ/min。
• 水蒸気吸入可能。水蒸気処理量500ｇ/ｈｒ。
• 排気時間の短縮。到達付近まで一定の排気速度維持。

用途

• 小型実験排気用
• 分析・測定装置の排気
• 加速器の排気

• 同クラスドライ真空ポンプの中でもトップクラスの省エネルギー、小型・軽量化を実現。
• ＥＲ100Ｄ：軽負荷・クリーンプロセスの排気に最適。
• ＥＲ100ＤＣ：耐食性能の高い材質を採用。腐食性ガスの排気に対応。

用途

• クリーン排気
• ＴＭＰなど高真空ポンプの補助ポンプ
• 小型実験装置排気

• 230Ｌ/minと500Ｌ/minの2製品ラインナップ。
• プロセス液を使用しないので、清浄な真空が得られる。
• 同期ギアをなくし、潤滑油を使用しない設計。

用途

• ＳＥＭ、リソグラフィ
• ロードロック/搬送室排気
• 加速器、イオン源、電子銃排気

• 揺動ピストン形は、耐久性に優れ、 構造上、吸入空間を大きく取る事ができ、効率的排気が可能で、大型ポンプに最適な構造。
• 低真空領域での連続運転や、大気圧と真空を短時間で繰返す、 というような過酷な運転条件でも、適切な油供給を行う機構を付属することにより、長く安心して使用できる。
• 精密かつ堅牢な設計で、かつメンテナンスしやすい構造となっているので、適切なメンテナンスをすることで、 20年、30年といった長期間使用可能。

• 水またはプロセス流体を封液とする、大気圧まで圧縮できる真空ポンプ。
• 封液をクローズドシステムで循環することにより、発生する廃液を最小に抑えることが可能。
• 他のポンプと組み合わせることで、様々なプロセスに対応。

• コンパクト設計なのでシステムとしてまとめる事が容易。
• 逃し弁を取り付けることにより許容範囲を超えた場合に自動的に圧力調整を行い、吸入圧力の高い領域でも最大限に排気能力を発揮。
• インバータ制御により、大気圧から駆動したり、吸入圧力が低い状態で圧力コントロールをしたりする事ができる。

• 簡単に超高真空を得ることができ、真空熱処理炉、真空蒸着、電子ビーム溶接、スパッタ装置等の排気系など、幅広い真空プロセスに用いられている。
• 作動油の突沸による圧力変動が少ない信頼性の高い超高真空ポンプ。
• 機械的な作動部が無く、堅牢で長寿命。